SK하이닉스, 올해 시설투자 9.6조로 확대

(서울=연합인포맥스) 정선미 기자 = SK하이닉스가 올해 시설투자 규모를 9조6천억원으로 확대한다고 26일 공시를 통해 밝혔다.

SK하이닉스는 "시장 환경 변화에 적극적으로 대응하고, 사업경쟁력 강화와 미래성장 기반 확보를 위해 해외법인을 포함한 2017년 시설 투자계획을 당초 약 7조원에서 9조6천억원으로 변경한다"고 말했다.

미래 성장동력 확보를 위한 신규 클린룸 건설과 기반 인프라 및 연구개발 투자 등에 나설 예정이다.

또 D램 수요의 안정적인 대응 및 3차원(3D) 낸드의 캐파 확대를 위한 투자에 나설 계획이라고 덧붙였다.

SK하이닉스는 우시공장을 운영하는 중국법인에 대해 '생산시설 보완투자 재원확보'를 위해 1조1천161억원(약 10억달러)을 현금출자한다고 공시했다.

올해부터 2020년까지 분할 출자할 예정이다.

SK하이닉스는 지난 25일 실적 설명회를 통해 상반기에 5조원 가량을 시설투자에 썼다고 밝힌 바 있다.

또 연내에 D램과 낸드플래시 모두 캐파 증가를 계획하고 있으며 D램 신규 공장인 중국 우시, 낸드 생산기지 청주 공장의 완공시기는 이르면 내년 4분기가 될 것이라고 언급했다.

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