EUV라인 초기 투자 규모 6조4천억 수준



(서울=연합인포맥스) 정선미 기자 = 삼성전자가 7나노 이하 반도체 파운드리(수탁생산) 미세공정을 주도할 EUV(극자외선) 라인 건설에 착수했다.

삼성전자는 23일 화성 캠퍼스에서 '삼성전자 화성 EUV 라인 기공식'을 열었다.

이번에 착공하는 EUV라인은 내년 하반기에 완공할 예정이며 시험생산을 거쳐 2020년부터 본격적인 가동이 나선다.

화성 EUV라인의 초기 투자규모는 건설비용을 포함해 2020년까지 60억달러(약 6조4천억원) 수준이다. 삼성전자는 라인 가동 이후에 시황에 따라 추가 투자를 추진할 계획이다.

신규라인에는 미세공정 한계를 극복하는 데 필수적인 EUV 장비가 본격 도입된다.

반도체 미세공정이 최근 한자리 수 나노단위까지 미세화가 진행됨에 따라 세밀한 회로를 구현하기 위해서 기존 불화아르곤(ArF) 광원보다 파장이 짧은 EUV 장비 도입이 불가피하게 됐다.

EUV 기술이 본격 상용화하면 반도체의 성능과 전력효율을 향상시키는 것은 물론 회로 형성을 위한 공정 수가 줄어들어 생산성도 획기적으로 높일 수 있다.

삼성전자는 화성 EUV라인을 통해 향후 모바일과 서버, 네트워크, HPC 등 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장 수요에 적기 대응할 계획이다.

이날 기공식에서는 삼성전자 DS부문장 김기남 사장, 파운드리 사업부장 정은승 사장, 권칠승 국회의원(화성시 병), 황성태 화성시 부사장, 지역주민 등 약 300명이 참석했다.

김기남 사장은 기념사를 통해 "이번 화성 EUV 신규라인 구축을 통해 화성캠퍼스는 기흥ㆍ화성ㆍ평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것"이라고 말했다.





<※삼성전자 화성캠퍼스 EUV라인 조감도.(그림=삼성전자 제공)>

smjeong@yna.co.kr

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