"역사는 만들어 가는 것…잘못된 관행과 사고 과감히 폐기"



(서울=연합인포맥스) 이미란 기자 = 이재용 삼성전자 부회장이 3나노 반도체 개발 현장을 방문하는 것으로 새해 업무를 시작했다.

이 부회장은 2일 화성사업장 내에 있는 반도체연구소를 찾아 삼성전자가 세계 최초로 개발한 3나노 공정기술을 보고 받고, 디바이스솔루션(DS) 부문 사장단과 함께 차세대 반도체 전략을 논의했다.

이 부회장은 이 자리에서 "과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다. 역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것이다"이라며 "잘못된 관행과 사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자"고 당부했다.

또 "우리 이웃, 우리 사회와 같이 나누고 함께 성장하는 것이 우리의 사명이자 100년 기업에 이르는 길임을 명심하자"고 강조했다.

삼성전자는 이 부회장이 새해 첫 경영 행보를 반도체 개발 현장에서 시작한 것은 메모리에 이어 시스템 반도체 분야에서도 세계 1위가 되겠다는 비전을 다시 한번 임직원과 공유하며 목표달성 의지를 다지는 차원이라고 설명했다.

반도체 미세화의 한계를 극복할 수 있는 차세대 기술인 게이트 올 어라운드(GAA)를 적용한 3나노 반도체는 최근 공정 개발을 완료한 5나노 제품보다 칩 면적을 약 35% 이상 줄일 수 있다.

소비전력을 50% 줄이면서 성능(처리속도)은 약 30% 향상할 수 있다.

mrlee@yna.co.kr

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