"2021~2022년 출시".."미 견제 속 기술 축적 기대"

"핵심 부품 국산화 안 돼도, 中 국내 조립만도 의미"



(서울=연합인포맥스) 선재규 기자= 중국 반도체 장비 기업이 중국에서 처음으로 28nm 리소그래피 설비를 2021~2022년 내놓겠다는 계획을 밝혀 주목받고 있다고 글로벌타임스가 7일 보도했다.

글로벌타임스는 업계 전문 사이트인 마이드라이버스닷컴과 ics마크닷시엔을 인용해 상하이 마이크로일렉트로닉스 이퀴프먼트(SMEE)가 이런 계획을 밝혔다고 전했다.

글로벌타임스는 도널드 트럼프 미 행정부가 화웨이와 ZTE 등에 대한 규제를 대폭 강화하면서 중국 자체의 리소그래피 장비 개발 필요성이 커졌다고 지적했다.

리소그래피 장비는 전자 회로를 반도체 기판에 그려 집적회로를 만드는 기술이다.

IT 산업 분석가 샹리강은 글로벌타임스에 SMEE가 28nm 리소그래피 설비 제조 능력을 갖추게 되면 14nm와 7nm 리소그래피 쪽으로 더 발전할 기회를 가질 것이라면서, 이런 '기술 축적'이 기대된다고 말했다.

2002년 창업한 SMEE는 중국 관련 시장의 80%가량을 점하고 있다고 신문은 전했다.

세계 시장은 네덜란드 기업 어드밴스드 세미콘덕터 머티어리얼 리소그래피(ASML)와 그 뒤를 이어 니콘과 카노가 장악하고 있다고 신문은 설명했다.

반도체 전문 애널리스트 류쿤은 설사 28nm 리소그래프 장비 핵심 부품 중국 국산화가 이뤄지지 않아도 이 설비가 중국에서 조립되는 것만도 의미가 있다고 말했다.

그러면서 SMEE가 순전히 자력으로 28nm 리소그래피 장비를 생산하는 데 3~5년이 소요될 수 있을 것으로 내다봤다. 그는 "여전히 갈 길이 멀다"고 강조했다.

jksun@yna.co.kr

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