낸드·시스템LSI·모바일 증가…DP는 예년 수준



(서울=연합인포맥스) 한재영 기자 = 삼성전자가 올해 시설투자 규모를 지난해보다 늘릴 계획이라고 29일 밝혔다.

이명진 삼성전자 IR팀장(전무)은 이날 4분기 실적 발표 직후 진행된 콘퍼런스콜에서 "지난해 당초 계획과 큰 차이가 없는 23조4천억원을 시설투자에 집행했다"면서 이같이 말했다.

그는 "지난해 반도체와 디스플레이에서 각각 14조3천억원과 4조원 수준 시설투자를 했다"면서 "올해 시설투자 규모는 글로벌 메크로 환경과 사업별 시황을 반영해 종합적으로 검토중이지만 현재로서는 올해 시설투자가 전년 대비 증가할 것"이라고 말했다.

구체적으로는 반도체 부문에서 낸드와 시스템LSI 사업에서 더 많은 시설투자에 나설 것이라고 설명했다.

아울러 모바일 부문에서도 베트남 공장에 대한 투자가 늘어나 지난해보다 투자 규모가 늘 것이라고 덧붙였다.

다만 디스플레이 부문에서는 지난해 중국 팹 준공 등에 이미 투자를 집행해 올해에는 투자 규모가 지난해와 비교해 큰 변화가 없을 것이라고 부연했다.

jyhan@yna.co.kr

(끝)
저작권자 © 연합인포맥스 무단전재 및 재배포 금지